Системы плазменной обработки
Настольные плазменные установки с микроконтроллерным управлением идеально подходят для активации, очистки и модификации поверхности широкого спектра материалов. Они оснащены радиочастотным источником питания, устройством автоматического согласования и управляются одним нажатием. Низкотемпературная плазма, низкая энергия, высокая плотность – подходят для обработки любых материалов.
Основные процессы
- Плазменная очистка;
- Изменение гидрофобности поверхности;
- Активация поверхности для улучшения адгезии;
- Плазменное травление.
Ключевые особенности
- Настольное исполнение и простое управление делает установку идеальной для любых лабораторий различных учреждений;
- Высокая производительность, подходящая для экспериментов разных типов;
- Высокая стабильность и воспроизводимость результатов;
- Деликатное проведение всех процессов; отсутствие повреждений модифицируемого образца и нежелательного изменения свойств материалов;
- Отсутствие опасных выбросов и загрязнений, производимых самой установкой.
| Параметр | PT500 | PT1000 | PT3000 |
|---|---|---|---|
| Мощность радиочастотного источника | от 0 до 50Вт регулируемая | от 0 до 150Вт регулируемая | от 0 до 300Вт регулируемая |
| Частота | 25КГц | 40КГц | 13.56МГц |
| Материал камеры | Алюминиевый сплав | ||
| Форма камеры | Цилиндрическая | ||
| Размер камеры | 147мм (диаметр) Х 145мм (высота) | ||
| Диаметр обрабатываемой поверхности | до 10 см | ||
| Уровень вакуума | ≤ 100 Па | ||
| Вакуумный насос | Двухступенчатый | ||
| Число газовых линий | 1 | 2 | 2 |
| Поток газа | 0.1-1 л/мин (регулируемый) | 0.1-1 л/мин (регулируемый) | 0.1-1 л/мин (регулируемый) |
| Длительность процесса | 1-999 секунд, плавная регулировка | 1-300 секунд, плавная регулировка | 1-6000 секунд, плавная регулировка |
| Электропитание | 220В 1000Вт | ||
| Размеры | 452мм(Ш) Х 380мм(Г) Х 225мм(В) | 452мм(Ш) Х 380мм(Г) Х 225мм(В) | 500мм(Ш) Х 525мм(Г) Х 365мм(В) |
| Вес | ≈ 18кг | ≈ 18кг | ≈ 38кг |